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    电路板超纯水设备污垢清洗方法
    作者:    发布于:2020/10/15    浏览次数:13

      水处理EDI技术是继反渗透膜技术之后水处理行业的又一有力技术,EDI超纯水设备出现从根本上解决了电子工业清洗原件问题,使世界科技发展进入到一个崭新阶段。

      工业上使用的EDI超纯水设备给水通常都是城市管网自来水或者是地下水,不经过处理的给水很容易使设备内部产生污垢,这些污垢如何去除,成为人们热门研究的课题。

    电路板超纯水设备

      电路板超纯水设备清洗污垢方法:

      1、倒换电极

      可以有效地减轻膜及阴极上的水垢,一般水垢沉积在浓水室阴极表面上,倒换电极后,浓水室、淡水室相应倒换造成水垢的不稳定状态,因而可以减轻结垢。

      2、酸洗

      是消除沉淀的有效方法,水垢积到一定程度,就需要进行酸洗,酸洗一般采用循环酸洗,浓水,淡水和极水室一次酸洗的方法。

      3、碱洗

      酸洗不能取出有机沉淀物,对于这类污染层可以用碱性食盐水清洗,使有机物消除,碱洗可以利用酸洗系统进行,一般不另设装置。

      4、定期拆洗

      采用上述方法不能回复除盐率时,应把EDI膜堆拆开清洗,重新组装一般1-1.5年电渗析需要拆洗一次。

      上述四种方法都是电路板超纯水设备污垢清洗方法,这四种方法都是专业人员在长期实践中积累经验总结的,由于设备应用地区不同,所以供应原水水质不同,应用的清洗方法也不尽相同,所以应该根据自身情况选择最适合的清洗方法。

脚注信息
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